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        1. 吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

          來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-25

          氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑,并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問題上有重要的參考價(jià)值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團(tuán)聚情況的結(jié)果,儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分??梢悦黠@看到病毒顆粒是否發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象,儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時(shí)間,以及病毒顆粒的團(tuán)聚情況。馳光以誠信為根本,以質(zhì)量服務(wù)求生存。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

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          系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng),減少了由于系統(tǒng)污染引起的計(jì)劃外停機(jī)維護(hù)時(shí)間。樣品預(yù)處理系統(tǒng):正確設(shè)計(jì)和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)針對這種復(fù)雜的工藝樣品,專門為低維護(hù)操作而設(shè)計(jì)。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米,減少了維護(hù)量。先進(jìn)的安全系統(tǒng),保護(hù)分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)的引入是一種手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校準(zhǔn),無樣本回收系統(tǒng)。吉林激光粒度粒形分析儀哪家好馳光機(jī)電為客戶服務(wù),要做到更好。

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          各種金屬粉體:如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體:如催化劑、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現(xiàn)代裝備制造業(yè)中的各種潤滑油、液壓油、燃料油、超導(dǎo)體、絕緣材料、無線電技術(shù)等行業(yè)越來越離不開激光粒度檢測技術(shù),在這些領(lǐng)域,激光粒度儀發(fā)揮著越來越大的作用。粒度測量儀可用于建筑材料生產(chǎn)種,建筑業(yè)大量使用的水泥,產(chǎn)品的粒度分布是影響質(zhì)量的非常重要的因素之一。

          CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分,其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm,其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸,因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用!歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題!馳光機(jī)電科技有限公司生產(chǎn)的設(shè)備產(chǎn)品質(zhì)量上乘。

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          馳光機(jī)電小編溫馨提示:為了準(zhǔn)確地測量顆粒直徑,EyeTech必須區(qū)分在焦點(diǎn)中心的和離開焦點(diǎn)中心的交互作用,因?yàn)橹挥性诮裹c(diǎn)中心的交互信號才能提供真實(shí)的顆粒直徑。這個(gè)可以采用脈沖形狀過濾器可以實(shí)現(xiàn)。只有衍生信號窄的脈沖才被認(rèn)為是在中心的交互信號,然后被加到粒徑分布數(shù)據(jù)中。顆粒互相作用產(chǎn)生光阻:可記錄每個(gè)顆粒數(shù)據(jù),直接測量真實(shí)粒徑,與光學(xué)及其他性質(zhì)無關(guān),粒徑濃度均可檢測,無需校正;儀器的光學(xué)測量系統(tǒng)(主機(jī))與樣品分散系統(tǒng)完全單獨(dú)的。馳光機(jī)電科技以優(yōu)先,優(yōu)良的產(chǎn)品,滿足廣大新老用戶的需求。廣東二氧化鈦粒度分析儀報(bào)價(jià)

          馳光機(jī)電科技嚴(yán)格控制原材料的選取與生產(chǎn)工藝的每個(gè)環(huán)節(jié),保證產(chǎn)品質(zhì)量不出問題。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

          磨料的粒度測量:以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用,CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米,典型的過大聚集體為1-10微米,并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來自于精確確定納米級顆粒尺寸,同時(shí)還識(shí)別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%,粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

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